拋光盤的平面精度對(duì)平面拋光精度的影響
拋光盤的平面精度與其精度的保持性決定了平面拋光的精度。因此為了使工件獲得高精度的加工平面，必須使用高精度平面的拋光盤。在拋光高精度面積較小的平面加工件時(shí)，要使用彈性形變小并且能始終保持平面度的拋光盤。所以在平面拋光盤上涂上一層彈性或軟金屬材料或者是采用特種玻璃作為拋光盤，都可以獲得高精度的表面質(zhì)量。
在工件材質(zhì)比較軟時(shí)，如光學(xué)玻璃等，有時(shí)可以使用軟質(zhì)的拋光盤(如石蠟盤及瀝青盤等)或半軟質(zhì)的拋光盤(如鉛盤及錫盤等)來(lái)獲得高精度的光滑無(wú)損傷表面。使用軟質(zhì)的拋光盤，拋光后得到的工件表面具有表面粗糙度與講過(guò)變質(zhì)層都很小的優(yōu)點(diǎn)，但存在不易保存工件平面度的缺點(diǎn)，對(duì)工件平面度產(chǎn)生影響。新光速生產(chǎn)的各類研磨拋光盤可以得到很好的表面粗糙度和材料去除率，生產(chǎn)的各類合成盤由合成樹脂,金屬材料和其它材料混合加工而成
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