抛光盘的平面精度对平面抛光精度的影响

抛光盘的平面精度与其精度的保持性决定了平面抛光的精度。因此为了使工件获得高精度的加工平面，必须使用高精度平面的抛光盘。在抛光高精度面积较小的平面加工件时，要使用弹...

油性研磨液和水性研磨液在平面研磨机上的应用

研磨液有油性和水性之分，两者都在平面研磨机上有较大的应用范围。但是两者是存在一些区别的，最本质的区别就是油性研磨液配料用的是油，也就是成分中大部分辅助材料是油;而水...

抛光液作用和浓度对工件的影响

抛光液对抛光机的作用 可能很多从事化工行业的朋友都知道抛光机的构成及运用，在运用的过程中一些辅助材料的使用在生产提供很大的方便，使机器能高效率的运转，提高生产的效率...

吸附垫的应用

吸附垫，主要用于半导体硅晶体材料，宝石晶体片，硅片外延片等产品的单面抛光，属于电子材料 的抛光装置。这是一种圆形的、由多层树脂材料组成的复合结构、硅片用水(或研磨液...

抛光垫性能对抛光液的影响

抛光垫将抛光液中的磨粒输送到工件表面，使突起的部分平坦化，是输送抛光液的关键部件。抛光垫的剪切模量及弹性模量、粗糙度和可压缩性等机械特性对工件的平整度及去除率有着...

研磨发展的意义

研磨是用磨具中的磨料作用于被加工工件表面，进行微量加工的过程。人类采用研磨加工的历史悠久，应用领域广泛。古代，研磨用于擦光宝石、铜镜等；近代，研磨作为抛光的前道工...

平面研磨加工技术

新光速指出平面研磨过程是一个受许多因素影响的复杂加工过程。研磨加工的方式、磨具的材质和粒度、被加工材料的力学、物理、化学性能、研磨过程中的环境、压力和速度等因素，...

精密平面研磨加工技术特点

初始研磨时，由于磨粒尺寸大小不一，大颗粒所承受较大的压力会发生磨粒嵌入工件的现象，使表面形成较大而深的划痕，严重影响加工质量的提高。新光速认为随着加工的继续，磨粒...